![login icon]()
Přihlásit se
Získejte přístup k individuálním cenám a možnosti přímého nákupu.
![login icon]()
Přihlásit se
Získejte přístup k individuálním cenám a možnosti přímého nákupu.
Přihlásit se
Nemáte zatím svůj účet
- Produkty
-
- Dle parametru
-
- Měření teploty
- Měření vlhkosti
- Měření vodní aktivity
- Měření CO2
- Měření diferenčního tlaku
- Měření nízkého rosného bodu
- Měření tlaku
- Měření proudu a napětí
- Měření přetížení a vibrací
- Měření vodní hladiny
- Měření rychlosti větru
- Měření pH
- Měření mechanického napětí
- Měření pulzů, stavů a událostí
- Vakuové pájecí pece
- Vakuové pece pro rychlé tepelné žíhání
- Vyhřívané desky
- Automatizační moduly
- Software
-
- Dle výrobce
-
- Monitorovací a automatizační systémy
- Služby a podpora
- Aplikace
- Reference
- Časté dotazy
-
![]()
- Produkty
- Vakuové pece pro rychlé tepelné žíhání
- RTP-100 | Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 100 mm
RTP-100
Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 100 mm
Vybrat variantu
-
Rychlé tepelné procesy s vysokou přesností a flexibilitou
Model RTP-100 je stolní vakuová pec navržená pro rychlé tepelné procesy (Rapid Thermal Processing – RTP) s možností vakuového provozu a řízené atmosféry. Díky extrémně rychlému náběhu teploty, přesnému řízení a kompaktním rozměrům je ideální pro výzkumné a vývojové laboratoře, prototypování a kontrolu kvality v oblasti polovodičů.
Klíčové vlastnosti:
- Maximální velikost substrátu: 100 mm wafer nebo 100 × 100 mm substrát
- Maximální teplota: až 1200 °C
- Náběh teploty: až 150 K/s
- Topný výkon: 18 infračervených lamp (20 kW), horní a spodní ohřev
- Komora: křemenná, s plynovými vstupy a výstupy
- Vakuum: až do 10⁻³ hPa (s externí pumpou)
- Řízení atmosféry: 1 plynová linka s průtokoměrem (MFC) pro dusík (5 nlm), možnost rozšíření
- Ovládání: SIMATIC SPS s 7" dotykovým panelem, až 50 programů po 50 krocích
- Chlazení: vodní (nutné)
- Rozhraní: Ethernet
Volitelné příslušenství:
- Další plynové linky s MFC (až 3 navíc)
- Vodíkový modul s bezpečnostními prvky
- Modul pro kyselinu mravenčí
- Membránová pumpa (chemicky odolná)
- Olejová rotační pumpa
- Uzavřený vodní chladicí okruh (2,4 nebo 8,8 kW)
- Křemenný držák waferu nebo podložka pro grafitový susceptor
- Bezpečnostní kryt Hood L
- Pat light a další doplňky
Technické parametry:
- Rozměry zařízení: 504 × 504 (700) × 570 mm
- Hmotnost: cca 55 kg
- Napájení: 3×230 V, 32 A, 3 fáze + N + PE (CEE zástrčka)
- Řízení: Siemens SPS, dotykový panel
- Možnosti rozšíření: verze HV (vysoké vakuum), verze EP (náběh až 200 K/s)
RTP-100
Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 100 mm
Vybrat variantu
RTP-100 – Rychloohřevná vakuová pec pro tepelné procesy až do 1200 °C
Kompaktní stolní pec RTP-100 je určena pro rychlé tepelné procesy s přesným řízením atmosféry a extrémně rychlým náběhem teploty až 150 K/s. Ideální pro výzkum, vývoj a polovodičové aplikace.
-
Rychlé tepelné procesy s vysokou přesností a flexibilitou
Model RTP-100 je stolní vakuová pec navržená pro rychlé tepelné procesy (Rapid Thermal Processing – RTP) s možností vakuového provozu a řízené atmosféry. Díky extrémně rychlému náběhu teploty, přesnému řízení a kompaktním rozměrům je ideální pro výzkumné a vývojové laboratoře, prototypování a kontrolu kvality v oblasti polovodičů.
Klíčové vlastnosti:
- Maximální velikost substrátu: 100 mm wafer nebo 100 × 100 mm substrát
- Maximální teplota: až 1200 °C
- Náběh teploty: až 150 K/s
- Topný výkon: 18 infračervených lamp (20 kW), horní a spodní ohřev
- Komora: křemenná, s plynovými vstupy a výstupy
- Vakuum: až do 10⁻³ hPa (s externí pumpou)
- Řízení atmosféry: 1 plynová linka s průtokoměrem (MFC) pro dusík (5 nlm), možnost rozšíření
- Ovládání: SIMATIC SPS s 7" dotykovým panelem, až 50 programů po 50 krocích
- Chlazení: vodní (nutné)
- Rozhraní: Ethernet
Volitelné příslušenství:
- Další plynové linky s MFC (až 3 navíc)
- Vodíkový modul s bezpečnostními prvky
- Modul pro kyselinu mravenčí
- Membránová pumpa (chemicky odolná)
- Olejová rotační pumpa
- Uzavřený vodní chladicí okruh (2,4 nebo 8,8 kW)
- Křemenný držák waferu nebo podložka pro grafitový susceptor
- Bezpečnostní kryt Hood L
- Pat light a další doplňky
Technické parametry:
- Rozměry zařízení: 504 × 504 (700) × 570 mm
- Hmotnost: cca 55 kg
- Napájení: 3×230 V, 32 A, 3 fáze + N + PE (CEE zástrčka)
- Řízení: Siemens SPS, dotykový panel
- Možnosti rozšíření: verze HV (vysoké vakuum), verze EP (náběh až 200 K/s)
Seznam variant RTP-100
Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 100 mm, vakuum do 10-3 hPa
RTP-100-HV
Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 100 mm, vakuum do 10-6 hPa
RTP-100
Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 100 mm, vakuum do 10-3 hPa
RTP-100-HV
Vakuová pec pro rychlé tepelné žíhání, přední plnění, pro křemíkové plátky do 100 mm, vakuum do 10-6 hPa
Kontaktní formulář
S čím vám můžeme pomoct?
Využijte kontaktní formulář pro jakýkoliv dotaz či připomínku
Ing. Jiří Pokorný, CSc.
Technický specialista, jednatel
Rádi se s vámi domluvíme na nezávazném setkání u vás v provozu. Nejlépe tak pochopíme vaše potřeby v oblasti měření a automatizace.
Rádi se s vámi sejdeme i online na platformě MS Teams
